蒙脫石分體式納米膠體磨在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
蒙脫石分體式納米膠體磨
蒙脫石分散機，高粘土膠體磨，超高速膠體磨，凹凸棒土分散機
蒙脫石是**的一種由人藥演變?yōu)楂F藥的品種，對動(dòng)物止瀉的效果也**，并且安全綠色。蒙脫石源于大自然，又回歸大自然，對大自然沒(méi)有破壞，是對環(huán)境友善的物質(zhì)。蒙脫石是天然的層狀硅酸鹽納米材料，每層厚度僅1 nm，顆粒細小，比表面積大。
材料達到納米尺度以后會(huì )表現出納米尺寸效應., 以零維的微觀(guān)顆粒來(lái)講, 當顆粒尺寸達到納米尺度以后, 其團聚效應顯著(zhù)增加, 團聚體內顆粒的相互吸引力也顯著(zhù)增大, 分散難度變大。傳統的分散機對納米級蒙脫石進(jìn)行分散時(shí)，很難真正均勻將蒙脫石分散開(kāi)來(lái)。新的工藝方式是應用蒙脫石分散機，高剪切分散機GM2000系列進(jìn)行研磨分散。
超高轉速和*剪切率對于獲得超細微懸浮液是*重要的。根據一些行業(yè)的特殊要求，上海思峻在XM2000的基礎上又開(kāi)發(fā)出GM2000系列。其剪切速率可以超過(guò)18000rpm，轉子的速度可以達到51m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專(zhuān)門(mén)研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。蒙脫石分散機剪切力更強，乳液的粒徑分布更窄。
GM2000系列產(chǎn)品與傳統的設備對比傳統設備需要8小時(shí)的分散過(guò)程，GM2000設備1小時(shí)就可以完成，更加高效、節能。
傳統設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉，帶有分散功能的每分鐘轉速也在1500轉之內，而GM2000系列每分鐘轉速可達到10000-18000轉，更加快速。超高的線(xiàn)速度產(chǎn)生的剪切力，使物料瞬間細化分散，從而獲得更高品質(zhì)的產(chǎn)品。
GM2000系列與同類(lèi)設備的對比
發(fā)熱問(wèn)題。同類(lèi)設備在加工過(guò)程中，高粘物料進(jìn)入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導致物料在設備腔體中停留時(shí)間過(guò)長(cháng)而導致嚴重發(fā)熱。GM2000系列設備在確保效果的基礎上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時(shí)間，降低了物料發(fā)熱的狀況。
多層多向剪切分散。同類(lèi)設備定、轉子等部件結構單一，多級多層的結構只是單純的重復性加工，相同的齒槽結構易發(fā)生物料未經(jīng)分散便通過(guò)工作腔的短路現象。GM000系列定、轉子結構采用多層多向剪切的概念，裝配式結構使物料得到不同方向的剪切分散，杜絕短路現象，超細分散更加*。
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研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。
以下為型號表供參考：
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線(xiàn)速度 m/s | 馬達功率 KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
GM2000/4 | 400 | 18000 | 44 | 4 | DN25 | DN15 |
GM2000/5 | 1500 | 10500 | 44 | 11 | DN40 | DN32 |
GM2000/10 | 4000 | 7200 | 44 | 22 | DN80 | DN65 |
GM2000/20 | 10000 | 4900 | 44 | 45 | DN80 | DN65 |
GM2000/30 | 20000 | 2850 | 44 | 90 | DN150 | DN125 |
GM2000/50 | 60000 | 1100 | 44 | 160 | DN200 | DN150 |
蒙脫石分體式納米膠體磨
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