氣相二氧化硅分散機，氣相二氧化硅分散，氣相二氧化硅原本為納米級粒徑，分散時(shí)易團聚，難以分散機，傳統高速分散機無(wú)法分散*，存在死角。采用SGN研磨分散機，管線(xiàn)式結構，物料一進(jìn)一出，物料*得到分散剪切。
氣相二氧化硅分散機
氣相白炭黑分散機,二氧化硅分散機,氣硅高速分散機,化工分散機,德國超細分散機
氣相二氧化硅，多孔性，無(wú)毒無(wú)味無(wú)污染，耐高溫。同時(shí)它具備的化學(xué)惰性以及特殊的觸變性能明顯改善橡膠制品的抗拉強度，抗撕裂性和耐磨性，橡膠改良后強度提高數十倍。液體系統、粘合劑、聚合物等的流變性與觸變性控制，用作防沉、增稠、防流掛的助劑，HCR與RTV-2K硅酮橡膠的補強，可用來(lái)調節自由流動(dòng)和作為抗結塊劑來(lái)改善粉末性質(zhì)等等。
氣相二氧化鈦，主要涉及的應用領(lǐng)域: 膠黏劑、涂料、油漆、油墨、電池、墨粉、醫藥、食品、塑料、造紙、化妝品、 硅橡膠、消泡劑、復合材料、飼料等各個(gè)領(lǐng)域。氣相法白炭黑，是一種白色、無(wú)毒、無(wú)味、無(wú)定形的無(wú)機精細化工產(chǎn)品。原子粒徑在7～40納米,比表面積在70～400m/g，具有良好的補強、增稠、觸變、消光、抗紫外線(xiàn)和殺菌等多種作用。
氣相二氧化硅分散，氣相二氧化硅原本為納米級粒徑，分散時(shí)易團聚，難以分散機，傳統高速分散機無(wú)法分散*，存在死角。采用SGN研磨分散機，管線(xiàn)式結構，物料一進(jìn)一出，物料*得到分散剪切。
氣相二氧化硅無(wú)論分散水中還是有機溶劑中，解決團聚問(wèn)題至關(guān)重要，SGN研磨分散機是膠體磨和分散機合并而成的新設備，*級為膠體磨頭主要可以打開(kāi)二級團聚體，第二級為分散盤(pán)定轉子，可以瞬間對物料進(jìn)行剪切分散，從而避免物料的再次團聚。并且可以還原原始的氣相二氧化硅的納米物料粒徑，分散更加均勻。
SGN研磨分散機，GMD2000系列研磨分散設備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇）
SGN的特點(diǎn)：
1、轉速提高，SGN分散機采用分體式結構，而傳統分散機采用直連結構（電機和分散軸直連），分體式結構通過(guò)皮帶變速，轉速提高到14000rpm，當然剪切力更高！
2、特殊結構，膠體磨+分散機的新型結構，初級為膠體磨頭、二級為分散盤(pán)定轉子，納米物料可以一步到位的進(jìn)行研磨分散。
3、采用博格曼雙端面機械密封，并設緩沖冷卻循環(huán)系統，在保證冷卻水的前提可24小時(shí)連續運行，滿(mǎn)足大工業(yè)化生產(chǎn)。
GMD2000系列研磨式分散設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線(xiàn)速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
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