GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機系列的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機,透過(guò)膠體磨定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時(shí)受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
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zui終產(chǎn)品： 混懸液
用途： 混懸液
工藝要求： 與藥物接觸部分為
原材料： 硫酸頭孢喹肟
液體(%)： 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇
固體(%)： 硫酸頭孢喹肟
密度(kg/m3)： 1.05 溫度(℃)： 35
將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐，加適量三乙酸甘油酯，經(jīng)研磨分散機進(jìn)行分散均勻，加入丙二醇，混合均勻。
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1、因該機轉、定子間隙不可調，是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑？
2、該機粉碎以上附加劑，會(huì )不會(huì )造成定轉子接觸部分磨損？
3、該機能否實(shí)現細碎至通過(guò)顆粒直徑100%小于50um。其中D95<20um，D90<10um，D80<5um目的？
細化作用一般來(lái)說(shuō)要強于均質(zhì)機，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場(chǎng)合下，它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。
GMD2000系列的線(xiàn)速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結構材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機的型號
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 3000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 8000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 20000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 40000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 120000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調節到允許量的10%。 | |||||
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數據。
產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字： 硫酸頭孢喹肟注射液研磨分散機 硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機 硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機 進(jìn)口研磨分散機 研磨分散機
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