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低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機

簡(jiǎn)要描述:

低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。

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低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機

一、產(chǎn)品關(guān)鍵詞

低酒精魔芋粉研磨分散機,魔芋粉濕法研磨機,低酒精濃度濕法研磨機,立式濕法研磨分散機,德國不銹鋼研磨機,低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機

二、低酒精濃度魔芋粉濕法研磨機

低酒精濃度濕法加工魔芋精粉的方法B、將魔芋切分護色;-10℃~5%~5%~D、干燥處理,該方法是在溫度為0℃的環(huán)境下對魔芋進(jìn)行粉碎、研磨與分離處理,這樣只需使用濃度為15%的酒精即可防止精粉粒子發(fā)生過(guò)度溶脹或形成溶膠,其加工成本大大降低,適合在食品加工領(lǐng)域推廣應用。

所謂濕法加工魔芋精粉,是指在加工精粉的過(guò)程中采用保護性溶劑浸潰保護加工,使精粉不膨化、不褐變,經(jīng)粉碎、研磨、分離、干燥等工序制取濕法精粉全過(guò)程的方法。濕法加工采用的保護性溶液包括有機溶劑保護液和無(wú)機溶劑保護液,有機溶劑保護液主要指以食用酒精作為控溶劑為主配兌的保護液,無(wú)機溶劑保護液主要指以四硼酸鈉)為主配兌的保護液,前者保護液成本較高,但精粉質(zhì)量好,精粉產(chǎn)品用于醫藥、食品等各行業(yè),后者保護液成本低,但加工的精粉不能食用,僅能作為工業(yè)用精粉。

三、研磨分散機的工藝

上海思峻的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。低酒精濃度魔芋粉濕法研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時(shí)不停機運行。

 

GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

 

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。

四、研磨分散機的結構

GMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

五、研磨分散機的特點(diǎn)

1、 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

 

六、從設備角度來(lái)分析,影響分散效果因素有以下幾點(diǎn):

1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時(shí)間、研磨分散時(shí)間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線(xiàn)速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線(xiàn)速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
SGN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個(gè)zui重要因素,研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的。

 

七、GMD2000系列研磨分散機設備選型表

型號流量L/H轉速rpm線(xiàn)速度m/s功率kw入/出口連接DN
GMSD2000/430018000514DN25/DN15
GMSD2000/51000140005111DN40/DN32
GMSD2000/10200092005122DN80/DN65
GMSD2000/20500028505137DN80/DN65
GMSD2000/30800014205155DN150/DN125

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%。

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 低酒精魔芋粉研磨機 魔芋粉濕法研磨機 低酒精濃度濕法研磨機 立式濕法研磨分散機 德國不銹鋼研磨機

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