藥物晶種濕法研磨分散機，目前許多結晶體一般在40-50UM ，下游的客戶(hù)在處理這些物料有跟高的要求一般需要達到5-10UM ，傳統采用干法氣流粉碎 無(wú)法達到要求的細度，結合多家客戶(hù)案例，推薦GMSD20000系列研磨分散機進(jìn)行晶種研磨細化處理，轉速18000rpm，膠體磨+分散機一體化設備，粒徑可達D90≤10μm。
一、產(chǎn)品名稱(chēng)：藥物晶種濕法研磨分散機,藥物晶種研磨分散機,藥物晶種濕法分散機,藥物晶種濕法研磨機
二、藥物晶種簡(jiǎn)介
晶種是在結晶法中可以形成晶核從而加快或促進(jìn)與之晶型或立體構型相同的對映異構體結晶的生長(cháng)的添加物。加晶種進(jìn)行結晶是控制結晶過(guò)程、提高結晶速率、保證產(chǎn)品質(zhì)量的重要方法之一。
三、晶種的意義
晶種用以提供晶體生長(cháng)的位點(diǎn)，以便從均勻的、僅存在一相的溶液中越過(guò)一個(gè)能壘形成晶核，加入的晶種加速了目標晶型的生長(cháng)速率，有助于得到目標品型。工業(yè)制品中，為了得到粒度大且均勻的晶體產(chǎn)品，都要盡可能避免初級成核，控制二次成核，加入適量的晶種作為晶體生長(cháng)的核心通常是必須的，晶種的制備因此也成為制備晶體的一個(gè)重要環(huán)節。
晶種的重要性在于所用的晶種是否需要特別工藝獲取，如果需要，則需要說(shuō)明晶種的獲取途徑，如果晶種的性質(zhì)有特別要求，需說(shuō)明晶種的特性及檢測方法。另外，晶種與晶型的穩定性也存在一定的關(guān)系。例如，也存在某一晶型在別的晶型晶體的表面生長(cháng)。穩定晶型會(huì )在亞穩定型或不穩定型晶型表面成核、生長(cháng)，直至*轉晶，這是由于兩種型的某一晶面的結構相似，溶質(zhì)分子可以在亞穩定型或不穩定型晶型晶面上直接堆積、排列成穩定晶型。
四、藥物晶種的粒徑要求
目前許多結晶體一般在40-50UM ，下游的客戶(hù)在處理這些物料有跟高的要求一般需要達到5-10UM ，傳統采用干法氣流粉碎 無(wú)法達到要求的細度，結合多家客戶(hù)案例，推薦GMSD20000系列研磨分散機進(jìn)行晶種研磨細化處理，轉速18000rpm，膠體磨+分散機一體化設備，粒徑可達D90≤10μm。
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五、SGN濕法研磨分散機的結構特點(diǎn)
SGN濕法研磨分散設備采用德國的高速研磨分散技術(shù)，通過(guò)超高轉速（高可達18000rpm）帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉子（通常配GM+8SF，定轉子間隙在0.2-0.3之間）使晶種在設備的高線(xiàn)速度下形成湍流，在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質(zhì)，從而得出超細的顆粒（當然也需要合適的分散劑做助劑）。
GMD2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到更低，保證機器連續24小時(shí)不停機運行。
六、藥物晶種研磨分散機選型表:
| 研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| GMSD 2000/4 | 300 | 18,000 | 50 | 4 | DN25/DN15 |
| GMSD 2000/5 | 1000 | 13,000 | 50 | 11 | DN40/DN32 |
| GMSD 2000/10 | 3000 | 9,200 | 50 | 22 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 50 | 37 | DN80/DN65 |
| GMSD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 50 | 55 | DN150/DN125 |
| GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 50 | 110 | DN200/DN150 |
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