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  • GMD2000生物質(zhì)膠原基質(zhì)膠研磨分散機
    生物質(zhì)膠原基質(zhì)膠研磨分散機

    生物質(zhì)膠原基質(zhì)膠研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼。

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  • GMD2000/4納米研磨機分散機
    納米研磨機分散機

    GMD2000系列SGN納米研磨機分散機是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMSD2000*的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備
    *的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備

    *的頭孢噻呋膠體磨研磨分散設備,頭孢噻呋注射液研磨分散機 是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同。

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  • GMD2000頭孢噻呋注射液膠體磨
    頭孢噻呋注射液膠體磨

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  • GMSD2000/4氧化鋯漿料超高速剪切分散機
    氧化鋯漿料超高速剪切分散機

    氧化鋯漿料超高速剪切分散機的定轉子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機一般為0.5-0.7mm,SGN定轉子更加精密,對于物料的細化效果更好。另外,SGN乳化機配置三組定轉子,物料通過(guò)工作腔體,相當于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更*。

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  • GMSD2000/4德國氧化鋯漿料高剪切分散機
    德國氧化鋯漿料高剪切分散機

    德國氧化鋯漿料高剪切分散機的定轉子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機一般為0.5-0.7mm,SGN定轉子更加精密,對于物料的細化效果更好。另外,SGN乳化機配置三組定轉子,物料通過(guò)工作腔體,相當于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更*。

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  • GMD2000/4SGN芳綸纖維高效分散機分散設備
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    SGN芳綸纖維高效分散機分散設備 芳綸漿粕研磨分散機是電動(dòng)機通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉齒(或稱(chēng)為轉子)與相配的定齒(或稱(chēng)為定子)作相對的高速旋轉,被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時(shí)受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化均質(zhì)分散的效果。

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  • GMD2000/4SGN無(wú)機材料納米高速研磨機分散機
    SGN無(wú)機材料納米高速研磨機分散機

    GMD2000系列SGN無(wú)機材料納米高速研磨機分散機是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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