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  • GMD2000/4納米級高剪切樹(shù)脂研磨分散機
    納米級高剪切樹(shù)脂研磨分散機

    納米級高剪切樹(shù)脂研磨分散機的特點(diǎn): 1、定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。 2、齒列的深度:從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣。 3、溝槽的結構式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

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  • GMD2000//4納米級樹(shù)脂研磨分散機
    納米級樹(shù)脂研磨分散機

    納米級樹(shù)脂研磨分散機,樹(shù)脂研磨分散機,高剪切研磨分散機GMD2000系列是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,它的一級是膠體磨的三級研磨頭,由粗至細至超細,可將較粗顆粒研磨至超細;二級連接一個(gè)超細齒的分散頭,轉速9000rpm,可將納米級顆粒瞬間進(jìn)行分散,防止顆粒抱團。

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  • GMD2000/4石墨烯三級高速研磨分散機
    石墨烯三級高速研磨分散機

    【 石墨烯三級高速研磨分散機的特點(diǎn)】 ① 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨 ② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 ③ 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離 ④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結

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  • GMD2000/4高剪切防黏劑研磨分散機
    高剪切防黏劑研磨分散機

    高剪切防黏劑研磨分散機GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMD2000超高速納米研磨分散機
    超高速納米研磨分散機

    超高速納米研磨分散機,高剪切超細研磨分散機,超細乳化設備,進(jìn)口研磨分散機,對于研磨分散機來(lái)說(shuō)Z大的一個(gè)目的就是要達到乳化的效果,那么從設備角度來(lái)說(shuō)影響乳化效果的因素有哪些呢? 1、乳化頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好) 2、乳化頭的剪切速率(越大,效果越好) 3、乳化頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好) 4、物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作

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  • GMD2000環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機的改性方法
    環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機的改性方法

    【環(huán)氧樹(shù)脂研磨分散機的改性方法】 環(huán)氧樹(shù)脂可通過(guò)化學(xué)方法改性和物理方法進(jìn)行改性?;瘜W(xué)方法改性主要是合成新型結構的環(huán)氧樹(shù)脂及新型結構的固化劑;物理方法改性主要是通過(guò)與改性劑形成共混結構來(lái)達到提高性能的目的。兩種方法比較起來(lái),*種方法從工藝、成本及難易程度來(lái)講都比第二種方法處于劣勢。因此,目前對環(huán)氧樹(shù)脂的改性主要是通過(guò)共混結構實(shí)現的。

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  • GMD2000納米高速研磨分散機
    納米高速研磨分散機

    納米高速研磨分散機,研磨分散機是一款集研磨和分散一體化的設備,是一項新的技術(shù)革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設備,先研磨后分散,物料研磨后又瞬間進(jìn)行分散,避免了物料的二次團聚。

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  • GMD2000納米海藻研磨分散機
    納米海藻研磨分散機

    納米海藻研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。 *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面

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