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  • GMD2000/4納米研磨機分散機
    納米研磨機分散機

    GMD2000系列SGN納米研磨機分散機是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMSD2000水性樹(shù)脂研磨分散機
    水性樹(shù)脂研磨分散機

    水性樹(shù)脂研磨分散機的分散效果 影響分散乳化結果的因素有以下幾點(diǎn): 1 分散頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次好) 2 分散頭的剪切速率 (越大,效果越好) 3 分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好) 4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好) 5 循環(huán)次數(越多,效果越好)

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  • GMSD2000鋁粉漆鋁粉涂料研磨分散機
    鋁粉漆鋁粉涂料研磨分散機

    鋁粉漆鋁粉涂料研磨分散機GMSD2000系列特別適合于膠體溶液,超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外,GMSD2000在摩擦狀態(tài)下工作,也就被稱(chēng)做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個(gè)寬的入口間隙和窄的出口間隙,在工作中,分散頭偏心運轉使溶液出現渦流,因此可以達到更好的研磨分散的效果。GMSD2000整機采用幾何機構的研磨定轉子,更好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種需求

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  • GMD2000/4臭豆腐高剪切研磨分散機
    臭豆腐高剪切研磨分散機

    臭豆腐高剪切研磨分散機具備以下特點(diǎn): 1)線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力非常強烈,通常所說(shuō)的超細濕磨 2)定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。 3)定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離 4)在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。 5)高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

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  • GMD2000/4無(wú)機材料納米級濕法研磨設備
    無(wú)機材料納米級濕法研磨設備

    無(wú)機材料納米級濕法研磨設備的特點(diǎn) 1更穩定 采用優(yōu)化設計理念,將的技術(shù)與創(chuàng )新的思維有效融合,并體現在具體的設備結構設計中,為設備穩定運行提供了保證. 2 新結構 通過(guò)梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細度大小,超高線(xiàn)速度的吸料式葉輪提供*切割力,纖維濕法研磨破碎可達400目.

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  • GR2000/4磷酸鋁凝膠均質(zhì)乳化機
    磷酸鋁凝膠均質(zhì)乳化機

    GR2000系磷酸鋁凝膠均質(zhì)乳化機是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)分散機進(jìn)行改進(jìn)。(我們提供了2P,2G,4M,6F,8F等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)

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  • GMD2000SGN液體硅橡膠分散機
    SGN液體硅橡膠分散機

    SGN液體硅橡膠分散機,液體硅橡膠,含有20%氣相二氧化硅,高溫下和有水存在是會(huì )接皮。如何讓氣相二氧化硅均勻的分散到體系當中,是一個(gè)比較大的難點(diǎn)。因為液體硅橡膠本身粘度高,難以流動(dòng),再加上氣相二氧化硅本身達納米級粒徑,容易團聚難以分散。

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  • GMD2000/4德國中試型研磨分散設備
    德國中試型研磨分散設備

    SGN德國中試型研磨分散設備:管線(xiàn)式分體式結構,轉速高達14000rpm,*的結構設計,膠體磨頭+分散盤(pán),先研磨后分散機,效果更佳。采用雙端面機械密封,保證冷卻水可24小試運行,模塊化設備可以根據物料要求更換定轉子盤(pán)(變換成乳化機、均質(zhì)機、分散機),更靈活更有效,廣泛用于各大高校和研究院。

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