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  • GMSD2000親水性白炭黑納米分散機
    親水性白炭黑納米分散機

    親水性白炭黑納米分散機,GMSD2000系列超剪切納米分散機,采用膠體磨+分散機一體化的結構,二級模塊處理,先研磨后分散,打開(kāi)白炭黑的聚集體,然后再瞬間充分均勻的分散,一般氣相法白炭黑分散后,粒徑可達DN90小于300nm。

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  • GMSD2000軟團聚納米材料高剪切分散機
    軟團聚納米材料高剪切分散機

    軟團聚納米材料高剪切分散機,采用膠體磨+分散機一體化的結構,二級模塊處理,先研磨后分散,打開(kāi)納米粉體的聚集體,然后再瞬間充分均勻的分散,一般納米材料分散后,粒徑可達DN90小于300nm。

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  • GRS2000沉淀法白炭黑超細分散機
    沉淀法白炭黑超細分散機

    GR2000沉淀法白炭黑超細分散機模塊--實(shí)現混合分散粒徑要求的關(guān)鍵部分,是由兩層分散頭構成,分散頭由定子齒列和轉子齒列構成,構成的分散剪切的幾何學(xué)形狀,在馬達帶動(dòng)下,在齒列間隙中獲得的平均線(xiàn)速度非常高,能實(shí)現高達10000rpm的剪切率來(lái)獲得超細微懸浮液。

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  • GMD2000光觸媒研磨分散機
    光觸媒研磨分散機

    光觸媒研磨分散機是高剪切膠體磨+高剪切分散機的設備,將兩者一體化,解決了時(shí)間差的問(wèn)題,因為物料團聚是一個(gè)瞬間的過(guò)程,研磨后立即分散,效果好,效率高。

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  • GMSD2000SGN氮化物研磨分散機
    SGN氮化物研磨分散機

    SGN氮化物研磨分散機,SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機,是由膠體磨+高剪切分散機組成,形成一體化的設備,先研磨后分散,避免物料團聚。

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